Dal sito Virgilio apprendiamo un’importante novità riguardante l’energia fotovoltaica, con la quale si intravedono prospettive di maggiore efficienza. Proprio da pochi giorni è partita infatti l’attività di produzione del nuovo impianto fotovoltaico a film sottile di Sakai (Giappone).

Vi sono diverse tecnologie per costruire le celle in silicio a film sottile, singola giunzione, tripla giunzione, tandem (amorfo e microcristallino), eccetera, e, a seconda della particolare tecnologia, si avranno rendimenti più elevati, ma anche costi più elevati.

L’impianto è stato costruito dalla Sharp, una delle prime società al mondo nel campo dei pannelli fotovoltaici, e avrà una capacità iniziale di 160 MW, che in seguito potrà salire fino a 1.000 MW.

Si tratta di un impianto identico a quello che Sharp sta costruendo a Catania in joint-venture con Enel e STMicroelectronics, e che entro il 2011 inizierà la produzione di 160 MW, che potrà in futuro salire a 480 MW.

La tecnologia dei pannelli a film sottile consiste in sottilissime pellicole di silicio disposte a strati (due o tre, nel caso di Sakai) su una base di vetro. In questo modo … continua