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Dal Giappone il nuovo fotovoltaico a film sottile.

aprile 12th, 2010 by Diego in Energie rinnovabili, Sviluppo sostenibile

Dal sito Virgilio apprendiamo un’importante novità riguardante l’energia fotovoltaica, con la quale si intravedono prospettive di maggiore efficienza. Proprio da pochi giorni è partita infatti l’attività di produzione del nuovo impianto fotovoltaico a film sottile di Sakai (Giappone).

Vi sono diverse tecnologie per costruire le celle in silicio a film sottile, singola giunzione, tripla giunzione, tandem (amorfo e microcristallino), eccetera, e, a seconda della particolare tecnologia, si avranno rendimenti più elevati, ma anche costi più elevati.

L’impianto è stato costruito dalla Sharp, una delle prime società al mondo nel campo dei pannelli fotovoltaici, e avrà una capacità iniziale di 160 MW, che in seguito potrà salire fino a 1.000 MW.

Si tratta di un impianto identico a quello che Sharp sta costruendo a Catania in joint-venture con Enel e STMicroelectronics, e che entro il 2011 inizierà la produzione di 160 MW, che potrà in futuro salire a 480 MW.

La tecnologia dei pannelli a film sottile consiste in sottilissime pellicole di silicio disposte a strati (due o tre, nel caso di Sakai) su una base di vetro. In questo modo si riduce del 99% la quantità di silicio utilizzata rispetto ai pannelli a moduli cristallini, abbassando i costi per la materia prima e semplificando la fabbricazione.

Per tale motivo la richiesta sul mercato di pannelli a film sottile è in costante crescita, soprattutto negli impianti su larga scala. La Sharp si propone dunque di usare l’impianto di Sakai come modello per gli altri da vendere nel resto del mondo.